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TC11微弧氧化膜制备及其结构性能研究

来源:  网络   作者:  网络   时间:  2015-04-02 15:40  点击:  

TC11微弧氧化膜制备及其结构性能研究

杨眉  刘清才  薛屺  王平  王小红
【摘要】:在Na2SiO3-Na2WO4-NaOH混合电解液中,利用微弧氧化(MAO)技术在TC11合金表面制备了氧化膜。用扫描电镜(SEM),X射线能谱仪(EDS),X射线衍射仪(XRD)对氧化膜微观结构、化学成分、厚度以及相组成进行了分析,采用HVS-1000维氏显微硬度计、MFT-4000划痕试验机、电化学测量系统完成氧化膜理化性能测试。实验结果表明,微弧氧化膜平均厚度达到135μm,分为两层结构,外层疏松,内层致密,氧化膜主要由TiO2、γ-Al2O3、Al2TiO5以及部分非晶SiO2组成,主要元素在断面上呈现梯度分布。氧化膜最高显微硬度是基体的4.7倍,膜与基体结合力48.50N。电化学极化曲线分析表明,氧化膜在4.5%盐水溶液中比基体的自腐蚀电流密度降低3个数量级,自腐蚀电位正移599mV。

以上文章选自:http://www.verabridge.com/Article/CJFDTotal-GNCL201101010.htm